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        半導體工廠大宗氣體輸送管道系統設計要點

        2019-08-30

          半導體工廠大宗氣體輸送管道系統設計要點有哪些

          半導體工廠大宗氣體輸送管道系統的設計

          1、經純化后的大宗氣體由氣體純化間送至輔助生產層或生產車間的架空地板下,在這里形成配管網絡,再由二次配管系統送至各用戶點。

          2、配管系統的基本設計原則是在主管上按一定間距設置支管端,再在每個支管上按一定間距設置分支管供二次配管使用。另外,主管的管徑不必隨流量的遞減而采取漸縮設計.這種配管系統的確具有充分的靈活性,但由于超高純氣體管路的管件和閥件價格昂貴,該系統的成本之高也是顯而易見的。

          3、通常,集成電路芯片廠的建設往往會分成若干個階段,一方面可以緩解一次性投資的巨大資金壓力,另一方面也可以根據市場狀況作出相應的調整決策。在新廠建設的第一階段,設計產量往往不是很高,用氣點也不是很多,尤其是氫、氨、氧、氦的用氣點就更少。因此必須考慮如何來簡化該配管系統以降低成本。

          大宗氣體輸送系統其它設計要點

          在設計中還應遵循國內其他相關規范,如 《 潔凈廠房設計規范 》 ( (氫氧站設計規范 》 、 《 供氫站設計規范 》 等,其中主要的設計要點有:

          1、在主管末端要設計氣體取樣口,對于氫氣和氧氣,還需在主管末端設置放散管。放散管引至室外,應高出屋脊 1 米,并應有防雨、放雜物侵入的措施二

          2、氫氣、氧氣管道間距問題:

          3、氧氣管道及其閥門、附件應經嚴格脫脂處理,并應設導除靜電的接地設施;

          4、氫氣管道接至用氣設備的支管和放散管,應設阻火器;引至室外的放散管,應設置防雷保護設施;應設導除靜電的接地設施。

          大宗氣體系統的設計是整個半導體工廠設計中的一個重要部分,雖然整個系統的流程并不復雜,但是其中任一環節的疏忽都可能會導致嚴重的后果。在設計中,必須在供氣穩定、連續不中斷的前提下,嚴格證氣體的品質,從而保障整個工廠生產的順利進行。


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